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질소산화물 첨가를 통한 탄소입자상물질 제거 시스템
| 특허명 | 질소산화물 첨가를 통한 탄소입자상물질 제거 시스템 | ||
| 출원인 | 강원대학교산학협력단|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 9월 11일 |
| 공개일 | 2021년 3월 19일 | 공고일 | 2021년 6월 9일 |
| 요약 |
본 발명은 질소산화물 첨가를 통한 탄소입자상물질 제거 시스템을 개시한다. 본 발명에 따르면, 산소 또는 공기의 산화 반응을 통해 생성된 오존을 공급하는 상압 저온 플라즈마 반응기; 및 ABO 3 또는 A 2 BO 4 구조를 갖는 페로브스카이트 촉매가 충진되며, 상기 상압 저온 플라즈마 반응기로 공급되는 오존과 질소산화물을 이용하여 탄소입자상물질을 연소시키는 연소반응기를 포함하는 탄소입자상물질 제거 시스템이 제공된다.
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| 특허명 | 출원일 | ||
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