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이차전지 전극 제조용 슬롯다이
| 특허명 | 이차전지 전극 제조용 슬롯다이 | ||
| 출원인 | 삼성에스디아이 주식회사|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 11월 20일 |
| 공개일 | 2021년 5월 28일 | 공고일 | - |
| 요약 |
본 발명의 일 실시예는 슬롯의 폭에 대하여 활물질 슬러리의 토출 속도 분포를 균일하게 하여, 기재의 폭에 대하여 활물질층의 코팅 두께를 균일하게 하는 이차전지 전극 제조용 슬롯다이를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 이차전지 전극 제조용 슬롯다이는, 제1블록; 상기 제1블록과 대향되는 제2블록; 및 상기 제1블록 및 상기 제2블록 사이에 위치하는 심(Shim)부재를 포함하며, 상기 제1블록 및 상기 제2블록은 서로 결합하여 활물질 슬러리를 토출하는 슬롯을 형성하고, 상기 제1블록은 상기 활물질 슬러리를 수용하는 챔버를 포함하고 상기 슬롯의 폭 방향과 토출 방향으로 제1면을 형성하고, 상기 제2블록은 상기 제1면에 대향하여 상기 슬롯의 폭 방향과 토출 방향으로 제2면을 형성하며, 상기 심부재는 상기 제1면과 상기 제2면의 양단에서 서로 마주하고 상기 슬롯의 높이 방향으로 형성된 단부를 포함하고, 상기 단부는 상기 심부재의 제1기준점으로부터 제2기준점까지 상기 폭 방향으로 제1조절폭(Lw)만큼 돌출되고, 상기 제2기준점으로부터 제3기준점까지 토출 방향에 대하여 제1각도(θ1)를 가지고 경사지며 상기 토출 방향으로 상기 제1조절길이(Ls)만큼 형성되는 폭 조절부를 포함한다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
|---|---|---|---|
| 슬롯 다이 | 2018년 12월 31일 | ||
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| 원자층 증착 장치 | 2013년 11월 1일 | ||
| 소화기관 운동 조절 장치 | 2018년 4월 24일 | ||
| 광 프로브 및 이를 포함하는 광 간섭 단층 촬영 장치 | 2012년 7월 27일 | ||
