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블록 공중합체, 그 형성 방법 및 패턴 형성 방법
| 특허명 | 블록 공중합체, 그 형성 방법 및 패턴 형성 방법 | ||
| 출원인 | 삼성디스플레이 주식회사|고려대학교 산학협력단|서강대학교산학협력단 | 출원일 | 2019년 9월 4일 |
| 공개일 | 2019년 10월 23일 | 공고일 | 2020년 2월 27일 |
| 요약 |
블록 공중합체를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 블록 공중합체는 하기 화학식 1로 표현되는 제1 블록 그리고 하기 화학식 2로 표현되는 제2 블록을 포함한다. 여기서, COM1 및 COM2는 각각 폴리스티렌, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐피리딘, 폴리디메틸실록산, 폴리페로세닐디메틸실란 및 폴리이소프렌을 포함하는 그룹에서 선택되고, R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10개인 알킬기이며, x는 10 내지 500이고, a는 1 내지 50이며, R2는 수소 또는 탄소수 1 내지 10개인 알킬기이며, y는 10 내지 500이고, b는 1 내지 50이다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
|---|---|---|---|
| 블록 공중합체, 그 형성 방법 및 패턴 형성 방법 | 2013년 1월 11일 | ||
| 블록 공중합체 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 | 2010년 9월 30일 | ||
| 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 | 2012년 12월 7일 | ||
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