특허명 | 이리듐 인광소재, 그 제조 방법, 및 이의 광물리적 특성 | ||
출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 11월 13일 |
공개일 | 2021년 5월 24일 | 공고일 | - |
요약 |
이리듐 인광소재에 있어서, 이리듐을 포함하는 중심 금속, 및 상기 중심 금속의 2좌 배위자이고, 입체장애 페닐기가 도입된 페닐-피리딘 리간드를 포함하되, 상기 입체장애 페닐은, 상기 리간드의 페닐기의 오르토(ortho) 위치에 도입되는 것을 포함할 수 있다. 본 출원은 상기 입체장애 작용기가 도입된 페닐피리딘 리간드를 포함하는 이리듐 인광소재, 그 제조 방법, 및 이의 광물리적 특성에 관한 것이다.
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특허명 | 출원일 | ||
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