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저온 유체 리소그래피 방법 및 저온 유체 리소그래피 시스템
| 특허명 | 저온 유체 리소그래피 방법 및 저온 유체 리소그래피 시스템 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2017년 8월 8일 |
| 공개일 | 2019년 2월 18일 | 공고일 | 2019년 8월 9일 |
| 요약 |
본 발명은 저온 유체 리소그래피 방법 및 저온 유체 리소그래피 시스템에 관한 것으로, 본 발명에 따른 저온 유체 리소그래피 방법은 (a) 광경화성 유체(1)를 마이크로 채널(10) 내부로 유동시키는 단계(S100), 및 (b) 마이크로 채널(10)에 광(3)을 조사하여, 미세입자(5)를 합성하는 단계(S200)를 포함하되, (a) 단계, 및 (b) 단계는 상온보다 상대적으로 온도가 낮은 저온의 합성온도에서 실행된다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
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