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NaYF4 박막, 적층체, 패턴 및 그 제조방법
| 특허명 | NaYF4 박막, 적층체, 패턴 및 그 제조방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2017년 8월 16일 |
| 공개일 | 2019년 2월 26일 | 공고일 | 2019년 3월 29일 |
| 요약 |
본 발명은 NaYF 4 박막, 적층체, 패턴 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 박막의 두께를 조절하여 발광강도를 조절할 수 있는 NaYF 4 박막, 박막의 적층 수를 조절하여 발광색을 조절할 수 있는 NaYF 4 적층체 및 패턴을 형성하여 발광 효율을 조절할 수 있는 NaYF 4 패턴 및 그 제조방법에 관한 것이다.
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| 특허명 | 출원일 | ||
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