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광학 수차의 고속 보정이 가능한 광학 이미징 방법
| 특허명 | 광학 수차의 고속 보정이 가능한 광학 이미징 방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2018년 6월 15일 |
| 공개일 | None | 공고일 | 2019년 10월 25일 |
| 요약 |
본 발명은 광학 수차의 고속 보정이 가능한 광학 이미징 방법에 관한 것으로, (A) 광학계를 이용하여 측정 대상물에 대한 측정 이미지가 획득되는 단계와, (B) 상기 광학계에 대해 기 설정된 위상 마스크를 이용하여 상기 측정 이미지의 초점 왜곡이 보정되는 단계 - 상기 위상 마스크는 상기 광학계에 대해 측정된 투과 행렬로부터 추출되며, 상기 투과 행렬의 각도별 행렬 요소에서 임의 위치의 위상을 기준으로 모든 각도에 대해 동일 위상으로 갖도록 하는 2차원 위상 보정 행렬임 - 와, (C) 상기 (B) 단계를 통해 초점 왜곡이 보정된 측정 이미지에 공간 왜곡 보정 계수가 적용되어 공간 왜곡이 보정되는 단계를 포함하며; 상기 공간 왜곡 보정 계수는 (a) 기준 표식 패턴으로 구성된 기준 표식 이미지를 상기 광학계에 적용하여 왜곡 이미지를 획득하는 단계와, (b) 상기 위상 마스크를 이용하여 상기 왜곡 이미지의 초점 왜곡을 보정하여 초점 보정 이미지를 획득하는 단계와, (c) 상기 기준 표식 이미지와 상기 초점 보정 이미지를 이용하여, 상기 기준 표식 패턴의 공간 왜곡을 보정하기 위한 상기 공간 왜곡 보정 계수를 산출하는 단계를 통해 산출되는 것을 특징으로 한다.
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| 특허명 | 출원일 | ||
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