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에어로졸 입자 공급장치 및 이를 이용한 에어로졸 증착 장치
| 특허명 | 에어로졸 입자 공급장치 및 이를 이용한 에어로졸 증착 장치 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2010년 11월 22일 |
| 공개일 | 2012년 5월 31일 | 공고일 | 2012년 12월 6일 |
| 요약 |
본 발명은 에어로졸 입자 공급장치 및 이를 이용한 에어로졸 증착 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 에어로졸 입자 공급 장치는 작동 유체가 유입되는 유입구와 에어로졸 입자가 배출되는 배출구를 가지며, 내부에 수용 공간이 형성된 에어로졸 챔버와; 상기 수용공간이 상기 유입구 측의 유입 공간과 상기 배출구 측의 유동 공간으로 구획되도록 상기 에어로졸 챔버 내부에 설치되며, 상기 유동 공간에 수용된 미세 분말이 부유되어 상기 배출구를 통해 에어로졸 입자로 배출되도록 상기 유입구를 통해 유입되는 작동 유체를 상기 유동 공간으로 확산시키는 다공성 확산 부재와; 상기 유동 공간과 연통되도록 상기 에어로졸 챔버와 연결되어 상기 유동 공간 내부로 미세 분말을 공급하는 미세 분말 공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 미세 분말 공급부를 통해 에어로졸 챔버로 미세 분말이 공급되도록 하여, 에어로졸 챔버에 초기에 수용되는 미세 분말의 양을 조절하거나 에어로졸 증착 장치의 작동 중에도 미세 분말을 추가로 에어로졸 챔버에 공급 가능하도록 하여 박막의 두께 조절을 가능하게 된다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
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