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폴리우레탄의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자
| 특허명 | 폴리우레탄의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2010년 2월 19일 |
| 공개일 | 2011년 8월 25일 | 공고일 | 2012년 1월 10일 |
| 요약 |
본 발명은 폴리우레탄의 선택적 패터닝 방법 및 이를 이용하여 제조된 반도체 소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 포토리소그래피 방법을 이용하여 기판상에 폴리우레탄의 패턴을 원하는 위치에 용이하게 형성시키는 방법 및 이를 통해 폴리우레탄이 패터닝된 반도체 소자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리우레탄의 패터닝 방법을 적용하면 패턴 형태의 폴리우레탄 유전체층을 제작할 수 있을 뿐만 아니라, 유전체층을 통과하는 전극도 한 차례의 포토 공정과 메탈 증착 공정만으로 제작할 수 있어 실제 반도체 소자 공정에서 폭넓은 응용이 기대된다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
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