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프리즘과 홀로그램 패턴 일체형의 도광판 제조방법
| 특허명 | 프리즘과 홀로그램 패턴 일체형의 도광판 제조방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2009년 1월 30일 |
| 공개일 | 2010년 8월 9일 | 공고일 | 2011년 6월 16일 |
| 요약 |
본 발명은 평면 디스플레이 백라이트의 도광판 제조방법에 있어서, 양각의 PDMS 스탬프를 제작한 후, 상기 스탬프를 이용한 홀로그램 패턴의 임프린트 공정을 통한 금형을 이용하여 도광판을 제조하는 프리즘과 홀로그램 패턴 일체형의 도광판 제조방법에 대한 것이다. 본 발명에서 상기 홀로그램 패턴의 임프린트 공정을 통한 금형은 (a) 실리콘 기판 상면에 금속박막층을 형성하는 단계, (b) 상기 금속박막층 상면에 UV 레진을 도포하는 단계, (c) 상기 UV레진이 도포된 금속박막층 상부에 양각의 PDMS 스탬프를 위치시키고 일정 압력으로 누른 후 일정량의 UV를 조사하여 UV 레진을 경화하는 단계, (d) 상기 PDMS 스탬프를 제거하여 일정 패턴을 얻는 단계, (e) RIE 공정을 통하여 경화된 UV 레진 박막을 에칭하는 단계, (f) 상기 에칭에 의하여 노출된 금속박막층을 습식식각을 통하여 제거하여 패터닝된 박막을 얻는 단계, (g) 상기 패터닝된 박막을 건식식각 또는 습식식각을 통하여 에칭하는 단계, (h) 상기 (g) 단계를 마친 박막에서 금속박막층을 제거하여 패터닝된 실리콘기판을 얻는 단계, (i) 상기 실리콘기판의 패턴에 이형제를 분무하여 도포하는 단계, (j) 상기 이형제가 도포된 실리콘 기판 상면에 전기도금 후 금속층을 형성하는 단계, (k) 상기 금속층의 일측면과 패턴된 타단면을 사출장치에...(이하생략)
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
|---|---|---|---|
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