특허명 | 초소수성 표면의 제조방법 및 이로 제조된 초소수성 표면 | ||
출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2010년 11월 16일 |
공개일 | 2012년 5월 24일 | 공고일 | 2013년 9월 26일 |
요약 |
본 발명은 기재 상에 위치한 포토레지스트 상에 마스크를 일정거리 이격되도록 위치시키는 단계; 상기 마스크 상에 UV를 조사하고, 조사된 UV가 마스크를 통과할 때 직진 및 확산되면서 포토레지스트를 노광시키는 단계; 및 상기 노광된 포토레지스트를 현상하여 못머리 형태의 마이크로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 초소수성 표면의 제조방법에 관한 것이다.
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특허명 | 출원일 | ||
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