기술 검색
진공효과를 이용한 고분자 전구체의 나노기공 내 삽입방법 및 이를 이용한 나노패턴의 정밀 복제방법
| 특허명 | 진공효과를 이용한 고분자 전구체의 나노기공 내 삽입방법 및 이를 이용한 나노패턴의 정밀 복제방법 | ||
| 출원인 | 서울대학교산학협력단|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2008년 10월 9일 |
| 공개일 | 2010년 4월 19일 | 공고일 | 2014년 10월 31일 |
| 요약 |
본 발명은 진공효과를 이용한 고분자 전구체의 나노기공 내 삽입방법 및 이를 이용한 나노패턴의 정밀 복제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수 ~ 수십 나노미터의 크기의 미세 구멍에 고분자 전구체와 같은 점성유체를 자유로이 삽입하여 수십 ~ 수백 제곱 센티미터에 걸친 대면적 고분자 기판에 미세 패턴을 정밀하게 제어된 형태로 전이하는 기술에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 나노미터 수준의 미세 구멍을 가진 주형에 점성유체를 삽입하는 방법에 있어서, 상기 미세 구멍에 특정기체를 노출시켜 이를 충진 시킨 후 상기 특정기체에 대한 용해도가 높은 용매에 노출하여 상기 미세 구멍에 순간적으로 발생하는 음압효과(또는 진공효과)에 의해 상기 용매가 미세 구멍에 채워지고, 상기 용매와 잘 섞이는 또 다른 용매들을 순차적으로 노출시켜 최종적으로 상기 점성유체로 교환되는 것을 특징으로 하는 방법이다. 나노패턴, 진공, 알루미늄 양극 산화
|
||
관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
|---|---|---|---|
