특허명 | 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법, 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼 및 이를 포함하는 태양전지 | ||
출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2008년 9월 26일 |
공개일 | 2010년 4월 5일 | 공고일 | 2011년 4월 15일 |
요약 |
태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법 및 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼가 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법은 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링을 위한 화학적 식각 공정에 있어서, 식각 용액에 가해지는 압력을 상압 미만의 저압으로 조절하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 저압에서의 텍스쳐링 공정을 통해 효과적으로 수소 기체의 차단 효과를 제거함으로써 실리콘 웨이퍼 표면에 보다 규칙적이고 작은 피라미드를 형성한다. 종래 기술에 비하여 피라미드의 사이즈는 약 2∼3마이크로미터 감소하였고 RMS 조도도 약 200nm 감소하여 개선된 표면상태를 얻었으며 반사도 또한 전 파장범위에서 약 2∼3% 감소한다.
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특허명 | 출원일 |
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