특허명 | 나노 입자의 합성 방법 | ||
출원인 | 주식회사 엘지화학|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2017년 9월 8일 |
공개일 | 2019년 3월 18일 | 공고일 | 2021년 1월 11일 |
요약 |
본 출원은 나노 입자 합성 방법 및 나노 입자에 관한 것으로서, 입자 표면에 고분자층이 형성되어 물리적, 화학적으로 안정성이 뛰어난 나노 입자의 합성 방법이고, 상기 합성에서 공정을 간소화하면서도 나노 입자를 균일한 크기 분포로 대량 생산할 수 있는 합성 방법을 제공한다.
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특허명 | 출원일 | ||
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