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엑스선 소스 장치 및 그 제어 방법
| 특허명 | 엑스선 소스 장치 및 그 제어 방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 1월 10일 |
| 공개일 | 2019년 10월 10일 | 공고일 | 2020년 12월 7일 |
| 요약 |
본 발명은 엑스선 소스 장치 및 그 제어 방법에 관한 것으로서, 전자 방출을 위해 캐소드 전극의 상면에 형성되는 에미터; 상기 캐소드 전극과 기설정된 거리만큼 이격되어 형성되는 애노드 전극; 상기 에미터와 상기 애노드 전극 사이에 위치하고, 적어도 하나 이상의 개구가 형성된 금속 전극으로 형성된 게이트 전극; 상기 게이트 전극과 상기 애노드 전극 사이에 위치하고, 상기 에미터로부터 전자 방출된 전자빔을 상기 애노드 전극으로 집속시키는 집속 렌즈; 및 상기 에미터와 게이트 전극에 대해 2차원 행렬 제어를 수행하여 상기 피사체의 위치별로 엑스선 선량을 조절하는 제어모듈을 포함하되, 상기 에미터는 제1 방향으로 어레이 배열되고, 상기 게이트 전극은 제2 방향으로 어레이 배열되며, 제1 방향과 제2 방향은 수직으로 교차되고, 상기 제어 모듈은 상기 어레이 배열의 규모에 따라 엑스선 선량을 결정하는 것이다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
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