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포토레지스트 스트리퍼
| 특허명 | 포토레지스트 스트리퍼 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2008년 8월 29일 |
| 공개일 | 2010년 3월 10일 | 공고일 | 2010년 12월 22일 |
| 요약 |
본 문서는 기재부; 및 상기 기재부 상에 형성되고, 1차원 나노 구조물로 이루어진 브러쉬부를 포함하는 포토레지스트 스트리퍼를 개시한다. 본 문서에서 개시하는 포토레지스트 스트리퍼는, 예를 들면, 매우 미세한 패턴이 형성된 웨이퍼 등의 기판에서 포토레지스트 또는 불순물 등을 제거하는 스트리핑 공정에 적용될 수 있다.
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
|---|---|---|---|
| 탄화된 포토레지스트를 이용하여 에피택셜층을 형성하는 방법 및 이에 의해 제조된 적층 구조물 | 2010년 4월 20일 | ||
| 나노 채널 구조물의 제조 방법 | 2014년 12월 24일 | ||
| 광 구조물의 제조 방법 | 2015년 5월 8일 | ||
| 패턴 구조물의 제조 방법 | 2014년 1월 20일 | ||
| 탄소나노튜브 이용한 나노 채널 제조 방법 및 이를 이용한 나노 구조물 | 2013년 6월 4일 | ||
