특허명 | 급속 열처리 공정을 포함한 소성조건 조절을 통한 이산화탄소 선택적인 분리막의 제조방법 및 이로부터 제조된 분리막 | ||
출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 7월 3일 |
공개일 | 2021년 1월 13일 | 공고일 | 2021년 2월 19일 |
요약 |
본 발명은 급속 열처리 공정을 포함한 소성조건 조절을 통한 이산화탄소 선택적인 분리막의 제조방법 및 이로부터 제조된 분리막에 관한 것으로서, 제올라이트 분리막을 제조하는 데에 있어서, 급속 열처리 공정(Rapid Thermal Processing, RTP)을 적용하여 결함 크기를 줄임으로써 CO 2 투과-선택도를 증가시키고, 특히 주입가스에 수분이 존재할 경우에eh 높은 CO 2 투과-선택도 성능을 나타내는 분리막의 제조방법 및 이로부터 제조된 분리막 및 상기 분리막을 이용하여 이산화탄소를 포집 및 제거하는 방법에 관한 것이다.
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특허명 | 출원일 | ||
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