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기체 차단막 형성 장치 및 그 방법
| 특허명 | 기체 차단막 형성 장치 및 그 방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2010년 8월 16일 |
| 공개일 | 2012년 2월 24일 | 공고일 | 2013년 3월 5일 |
| 요약 |
본 발명은 유기발광소자, 유기태양전지 등의 유기전자 소자용 수분 및 산소 기체 차단을 위한 기체 차단막 형성 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 특히 고특성 기체 차단막을 형성하기 위해 유기박막과 무기박막을 혼용하여 적층하는 구조의 유/무기 혼성 다층 기체 차단막을 형성함에 있어서 공정의 연속성을 유지하기 위해 하나의 공정용 진공 챔버 내에서 모든 기체 차단막을 형성하며, 이때 사용되는 무기박막의 형성은 스퍼터링 방법 기반의 중성입자 빔 처리 방법을 사용하여 나노 결정 구조의 크기를 단일 무기 박막 내에서 두께별로 연속적으로 변화시켜 고밀도 박막을 형성하며, 완충층 역할의 유기박막 형성은 고분자 유기박막용 액상 재료를 기화하여 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 방법 기반으로 기판 위에 선택적으로 형성함으로써, 생산성과 저원가 특성을 모두 만족시키는 고특성 기체 차단막을 형성할 수 있는 기체 차단막 형성 장치 및 그 방법에 관한 것이다. 본 발명인 기체 차단막 형성 장치를 이루는 구성수단은, 화학 기상 증착 공정과 스퍼터링 공정이 수행되는 공간을 제공하는 진공 챔버, 상기 진공 챔버 내부의 하부에 배치되되, 유/무기 혼성 다층 구조의 기체 차단막이 형성되는 대상체를 장착하고 있는 홀딩 수단, 상기 진공 챔버 내부의 상부에 배치되어 중성입자 빔을 발생시키는 중성입...(이하생략)
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관련 특허
| 특허명 | 출원일 | ||
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