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레이저 식각장치 및 이를 이용한 공극 형성 방법
| 특허명 | 레이저 식각장치 및 이를 이용한 공극 형성 방법 | ||
| 출원인 | (주)미래컴퍼니|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2009년 5월 27일 |
| 공개일 | 2010년 12월 7일 | 공고일 | 2011년 9월 19일 |
| 요약 |
태양전지 제조에 이용되는 레이저 식각장치 및 이를 이용한 공극 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 태양전지 제조 시 후면 패시베이션층에 공극을 형성하기 위한 레이저 식각장치에 있어서, 상기 후면 패시베이션층이 형성된 태양전지의 실리콘 기판을 거치하는 스테이지부와, 실리콘 기판의 특성에 따라 조정된 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부와, 공극의 크기와 모양에 따라 레이저 빔의 스폿의 크기와 모양을 변형하는 빔 형성부와, 하나 이상의 공극이 배열된 공극 패턴에 따라 레이저 빔이 공극의 위치에 조사되도록 스캔하는 스캔부와, 스캔부에 의해 스캔된 레이저 빔을 집광하여 조사하는 투영부를 포함하는 레이저 식각장치에 의하면, 고효율의 박형화된 태양전지를 제조하는 과정에서 사진 식각 기술 대신에 레이저 식각 기술을 이용하여 보다 단순화된 공정을 통해서 후면 패시베이션층에 공극 패턴을 형성할 수 있다. 태양전지, 레이저, 식각, 패시베이션
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| 특허명 | 출원일 | ||
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