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고굴절률 나노 구조체 형성 소재, 이를 이용하여 형성된 나노 구조체 및 그 제조 방법
| 특허명 | 고굴절률 나노 구조체 형성 소재, 이를 이용하여 형성된 나노 구조체 및 그 제조 방법 | ||
| 출원인 | 고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2020년 9월 15일 |
| 공개일 | None | 공고일 | 2021년 5월 14일 |
| 요약 |
본 발명은 고굴절률 나노입자를 이용하여 열 또는 자외선에 의해 경화되는 나노 구조체 형성 소재를 이용하여 고굴절 나노 구조체를 제조하는 기술적 사상에 관한 것으로, 본 발명은 입사광을 굴절시키는 복수의 나노입자, 상기 복수의 나노입자를 분산시키는 고분자 안정제 및 광개시제(photo-initiator) 및 열개시제(thermal-initiator) 중 어느 하나의 개시제, 상기 복수의 나노입자, 상기 고분자 안정제 및 단량체(monomer)를 포함하고, 상기 복수의 나노입자가 분산된 분산 용매를 포함하는 고굴절률 나노 구조체의 형성 소재를 고분자 복제 몰드에 적용하여 고굴절률 나노 구조체의 형성 소재를 경화시켜서 메타렌즈, 메타 표면같은 각종 응용소자에 이용할 수 있는 고굴절률 나노 구조체를 제조하는 기술에 관한 것이다.
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| 특허명 | 출원일 | ||
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