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활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법.
| 특허명 | 활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법. | ||
| 출원인 | 한국과학기술연구원|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2019년 6월 5일 |
| 공개일 | 2020년 12월 15일 | 공고일 | 2021년 5월 17일 |
| 요약 |
본 발명은 활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트는 금속소재로로 이루어지고 내부에 홈이 있는 본체, 상기 홈의 일부 영역에 충진되어 있는 제 1 충진금속 및 상기 제 1 충진금속의 상부에 충진되는 제 2 충진금속을 포함하고, 상기 제 2 충진금속은 상기 제 1 충진금속과 다른 이온화 경향을 가지는 것을 특징으로 한다.
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| 특허명 | 출원일 | ||
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