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유연 투명전극 제조방법 및 이에 의해 제조된 유연 투명전극
| 특허명 | 유연 투명전극 제조방법 및 이에 의해 제조된 유연 투명전극 | ||
| 출원인 | 한국전력공사|고려대학교 산학협력단 | 출원일 | 2018년 9월 18일 |
| 공개일 | 2020년 3월 26일 | 공고일 | - |
| 요약 |
본 발명은 유연 투명전극 제조방법 및 이에 의해 제조된 유연 투명전극에 관한 것이다. 상기 유연 투명전극 제조방법은 포토레지스트 패턴이 형성된 폴리머 기판 표면에 나노실버 코팅제를 도포하여 나노실버 코팅층을 형성하는 단계; 상기 폴리머 기판 표면에 형성된 포토레지스트 패턴을 용매로 리프트오프(lift-off) 하여, 나노실버 패턴을 형성하는 단계; 상기 나노실버 패턴과 할로겐 착물을 접촉하여, 리간드 치환하여 치환체를 형성하는 단계; 및 상기 치환체를 환원하여 전극패턴을 형성하는 단계;를 포함한다.
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